kemet拋光機描述
用于 KemCol 15 的配件和耗材
描述 代碼
3 件套陶瓷面調理環(huán) 361522
不銹鋼塑料面調節(jié)環(huán) 362757
380 毫米不銹鋼支撐板（用于拋光墊） 362033
380 毫米鋁制升降盤 361001
380 毫米鋁制驅動板 361002
380 毫米薄金屬盤（用于磁性系統） 342563
380 毫米磁盤 345773
CMP 研磨液 5 升 10 升 20 升
Col-K 600212 600238 600204
科爾-K（NC） 600199 600239 600202
CMP拋光液
kemet拋光機耗材 代碼
380 毫米 CHEM-H 聚氨酯拋光墊 341865
380 毫米 PSU-M 鈰化學紡織布 341011
380 毫米 MRE 短絨毛終拋光墊 341715
kemet化學機械拋光介紹
化學機械拋光 (CMP) 是一種在制造業(yè)中越來越流行的表面拋光方法。CMP 是將化學力和機械力組合應用于材料表面，以將其拋光至非常高的光滑度。該工藝對于難以加工或具有復雜幾何形狀的材料特別有用。
Kemet 提供各種標準和特殊金剛石產品，這些產品均在我們的質量控制實驗室中配制和制造。每一種產品都是金剛石粉末的特殊混合物，在化學載體中具有特定的等級和濃度
Kemet 產品使用后的效果表現：
好的切削量和表面光潔度
易于清潔
耐溫性
潤滑以防止干燥
